雙重曝光半導體

雙重曝光技術護航 ArF浸潤式微影穩居主流 - 懂市場 - 新電子科技雜誌微影製程係利用曝光顯影過程將光罩上的電路圖案縮微轉印至晶圓上,而隨著半導體製程的微縮,傳統光學微影技術已逐漸面臨實作瓶頸,以主流的193奈米波長的氟化氬(ArF)雷射光源為例,其可達到的最小電晶體半間距(Half Pitch)為65奈米,若再搭配 ......

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台積電蔣尚義:14奈米面臨十字路口 EUV、雙重曝光2擇1台積電研發資深副總蔣尚義表示,2012年初要針對14奈米製程做評估,究竟是要採用極紫外光微影製程(EUV)還是沿用Immersion 193機台,採多重曝光(multiple patterning)方式進行,將會影響2015年量產進度,同時也呼籲設備廠要多加把勁...

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工廠自動化專業感測器、影像系統和量測儀器 | KEYENCE 台灣基恩斯感測器, 影像系統, 測量儀器, 靜電消除器, 顯微鏡, 雷射刻印機, PLC等工廠自動化全方位支援產品.KEYENCE TAIWAN CO., LTD. ... 案例研究 瞭解企業與專家如何利用 KEYENCE 產品產生加值解決方案,成為專業領域的領導者。...

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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 微影顯像:EUV的替代品會是什麼? - Semicondutor Magazine一漂亮美眉長時間佔據ATM,並且不時打出一張收據。我在後面排隊等得不耐煩了。就伸頭看了一眼,發現屏幕上竟然顯示:“餘額不足”。只見美眉仍在不停的按取款,一張一張地收集打出來的居收據。大概5分鐘過去了,只見這漂亮美眉拿著一堆銀行憑條,急匆匆地奔向公廁。 今年早些時候,在North Reading, MA舉行的SEMI Northeast論壇中,應用材料公司的資深技術處長Patrick Martin談到尺寸微縮與曝光顯影增加的成本和複雜性。他說,「產業界有許多對話談到微縮是否走到盡頭”。我想很多討論是假設我們談的是目前的元件架構 – 那 ......

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相機的原理與結構 - 攝影數位資訊空間一分鐘教你變身草泥馬!                                        觀景窗的設計在於能提供攝影者觀看欲拍攝的景物,做為取景及構圖。在單眼反射相機的觀景窗上可看到自動或手動的曝光訊息。簡易型相機的觀景窗則較簡單,僅顯示自動對焦的區域和視差修正符號。...

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Nikon Hong Kong Ltd. - COOLPIX P900 - 老師在講,妳都沒有在聽!相機的雙重偵測光學減震 (VR) 功能可穩定影像,效果相等於快門速度提升約 5.0 級* 2,可呈獻清脆亮麗的相片與影片;而 ACTIVE 模式則有助抵銷相機震動影響,讓您邊走邊拍,影像毫不模糊。相機的高速反應效能提升,將廣角拍攝延時縮短至約 0.12 秒* 4 ......

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