low k材料

國立清華大學材料工程學系 - 03/01/2015 03:16:07 pm +0800 - Open WebMail這是一個值得深思的問題!! 研究計畫一覽 年度 計畫名稱 參與人 擔任之工作 計畫時間 補助/委託機構 備註 2009 Novel technology for high-k gate oxide of EOT beyond 0.5nm 吳泰伯 主持人 2009年04月 ~ 2010年03月 台積電 2009 全透明氧化鋅基電阻式記憶體之材料與元件開發...

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國立清華大學材料工程學系 - 03/01/2015 03:16:07 pm +0800 - Open WebMail結局真令人意想不到!!! 期刊論文 W.-C. Lee and J. Hwang, "Penning ionization in the electron beam assisted secondary ion mass spectrometry _dependence of ionization potential", International J. Mass Spectrometry 279, 76-81, 2009年 K. Y. Wu, W. Y. Chen, J. Hwang, H. K. Wei, C ......

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材料世界網:32奈米以下IC半導體性能提昇的重要推手-材料技術的新突破到底是選了甚麼呢??? 32奈米以下IC半導體性能提昇的重要推手-材料技術的新突破 2007/12/24 [ 友 善 列 印 | 推 薦 好 友 ] 在2007 Symposium on VLSI Technology有關高介電常數絕緣膜/金屬閘極(high-k/metal gate)議程的會場上,Intel和IBM公司以「電晶體(transistor)歷史中最大的 ......

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森之風_鋁隔熱毯_頂樓隔熱_屋頂隔熱_鐵皮屋隔熱_鐵皮屋頂隔熱_隔熱材料_保溫材料_080-0808-108這車主一定是個死忠動漫迷!!! 屋頂隔熱︱頂樓隔熱︱鐵皮屋隔熱︱貨櫃屋隔熱︱採光罩隔熱︱西曬隔熱 設計:主動規劃、施工容易、業主滿意。 ... E值=量度材料吸收輻射熱後,放射出來的百分比值;E值越小(Low-e)=越不吸收輻射熱=反射輻射熱的效果越好。...

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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 先進半導體製程與材料選擇 - Semicondutor Magazine妳現在是哪個階段呢? 圖二:2007年Intel推出以High K Metal Gate的Penryn晶片(45nm)。 半導體的三國演義 值得注意的是,IBM不僅將移轉45nm的技術給晶圓代工的韓國三星(Samsung)及新加坡特許(Chartered Semiconductor),更將技術賣給了中國的中芯。...

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林光隆的個人資料 - 國立成功大學 材料科學及工程學系這女生真會ㄍ一ㄥ~~~ 成功大學材料科學與工程學系是我國最早成立,以培育材料科技人才為宗旨的學術單位。不僅有悠遊的歷史、優良的系風,在學術單位及人才教育上均為國內材料學界的佼佼者。材料科學工程兼具科學所須的專業知識及研究精神,以及工程應用上不可或缺 ......

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