蔡柏璋+謝盈萱 攜手征服舞台│美麗佳人Marie Claire
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 半導體濕式清洗製程臭氧水安全風險考量 - Semicondutor Magazine【採訪撰文/李昭融;造型/蕭景引;攝影/楊川宏;化妝髮型/Pink Tsai】 男的看似斯文卻個性直接、女的富有俠女風範卻處處要求完美,他們不是閨房密友,卻是舞台上最值得信賴的夥伴,在保持距離的默默關心底下,找到彼此最完美的平衡關係。 在舞台上,遇到旗鼓相當的對手並非難事,但若想找到一個惺惺相惜的夥隨著半導體製程技術演進,由以往0.18微米至現今90奈米線寬,晶圓表面之污染物控制更為嚴苛,於晶圓清洗後要求於其表面快速形成氧化層,目前以高濃度臭氧水溼式製程,達到產能大及氧化層厚度快速形成為主流;但半導體廠以往著重探討相關製程化學 ......
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