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氧氣的發現,半導體廠的各製程所需使用的特氣,工業氣體

半導體廠的各製程所需使用的特氣 特殊氣體上,可略分為下述三大類: (1) 惰性氣體(Inert Gas)的He, SF6,CO2, CF4, C2F6, C4H8及CH3F等。 (2) 燃燒性氣體(Flammable Gas)的SiH4,Si2H6, B2H6, PH3, SiH2Cl2, CH3, C2H2及CO等。 (3) 腐蝕性氣體(Corrosive ......

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