半導體科技新聞 - 化學放大型光阻中PEB製程的化學作用與物理特性 - Semicondutor News, Science and Technology
William Hinsberg, John Hoffnagle, Frances Houle,B> IBM Almaden ResearchCenter, San Jose, California 化學放大型(chemically amplified, CA)光阻之曝光後烘烤製程的測量與數學模型顯示:擴散作用並不重要,而所觀察到的曝光區域延展現象,主要是產生光 ......