半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 晶圓清洗後段製程(BEOL)光阻灰化後的殘留去除方法 - Semicondutor Magazine
"Steve Loper, Weiping C. Ma, Luke Chang, FSI International, Chaska, Minnesota KangHeon Lee, Dyana Peter-Kini, 1st Silicon, Malaysia 在最近的後段製程世代中,常需要頗多的水及有機混合溶劑來進行光阻灰化後的去除工作。FSI公司於是在這方面研究出能保有 ......