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磁力濺鍍法 在放電空間內同時給予電場與磁場使電子能被封閉在靶材旁。因 而,能使陽離子生成効率提昇的方法。其結果是,(1)可使成膜速度變快。(2)因為可以在不會持續Glow放電10–1~10–2 Pa這樣的低氣壓下也...

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