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早期曝光機的光源為全光譜光源,後演進到G-line(436nm)光源,目前最廣泛使用的為I-line(365nm)光源,對於0.3μm線寬以下的IC製程,則須採用深紫外線(deep UV)248nm光源,甚至X-光或電子束。目前光源較常採用高壓水銀(汞)弧燈,由於其特性頻譜如下圖所示 ......

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